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對(duì)應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)等的曝光設(shè)備、涂布/顯影設(shè)備中，制程腔體內(nèi)的環(huán)境溫濕度進(jìn)行精密控制，以保證制品良率。

對(duì)應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)等的曝光設(shè)備、涂布/顯影設(shè)備中，制程腔體內(nèi)的環(huán)境溫濕度進(jìn)行精密控制

溫度控制的精度可達(dá)目標(biāo)溫度±0.01℃，確保產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定性及產(chǎn)品的良率

溫度控制精度
±2%RH~±1%RH
主要用于面板廠、晶圓廠、封裝測(cè)試廠精密溫濕度控制

溫度控制的精度可達(dá)目標(biāo)溫度±0.01℃，此設(shè)備可滿足制程環(huán)境更精準(zhǔn)的溫控需求，確保產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定性及產(chǎn)品的良率。