溫濕度調(diào)節(jié)裝置
對(duì)應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)等的曝光設(shè)備、涂布/顯影設(shè)備中,制程腔體內(nèi)的環(huán)境溫濕度進(jìn)行精密控制,以保證制品良率。各循環(huán)系統(tǒng)均可以有多路獨(dú)立控溫輸出管路。
對(duì)應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)等的曝光設(shè)備、涂布/顯影設(shè)備中,制程腔體內(nèi)的環(huán)境溫濕度進(jìn)行精密控制,以保證制品良率。各循環(huán)系統(tǒng)均可以有多路獨(dú)立控溫輸出管路。
OUR
ADVANTAGE
在溫度控制方面,其精度可達(dá) ±0.1℃。無(wú)論是高溫環(huán)境下的穩(wěn)定維持,還是低溫狀態(tài)的精準(zhǔn)把控,都能輕松應(yīng)對(duì)。
氣體溫濕度調(diào)節(jié)裝置(ACU)恒溫恒濕機(jī)在基板曝光前,能有效維持其表面溫度的均一性。經(jīng)過(guò)此設(shè)備處理后的空氣,溫度控制精度可達(dá)目標(biāo)值士0.01°℃,充分滿足制程環(huán)境對(duì)溫控的極致要求。該設(shè)備的應(yīng)用,不僅確保了產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定,更為產(chǎn)品的高良率提供了堅(jiān)實(shí)保障。在精密制造領(lǐng)域,恒溫恒濕機(jī)的這一卓越性能,無(wú)疑為生產(chǎn)流程的順暢與品質(zhì)的提升貢獻(xiàn)了不可或缺的力量。
TCU Series 精密恒溫恒濕機(jī)主要用于半導(dǎo)體制程中對(duì)多路反應(yīng)腔室的精準(zhǔn)控溫,裝置由熱交換器、循環(huán)泵、壓縮機(jī)和控制系統(tǒng)構(gòu)成,采用先進(jìn)的控制算法,提高了chiller的穩(wěn)定性、控溫精度和反應(yīng)速度。 在帶負(fù)載的情況下控溫精度可達(dá)±0.5℃,可在-20℃~85℃之間任意控溫,有良好的溫度穩(wěn)定性。
半導(dǎo)體專用多通道溫控設(shè)備熱控卡盤(pán)平板又叫控溫卡盤(pán)、控溫平板、快速溫變卡盤(pán)、高低溫控溫卡盤(pán),該設(shè)備系統(tǒng)自身帶制冷系統(tǒng),避免了液氮、二氧化碳的消耗,提供了一個(gè)精確可控的溫度平臺(tái),可以快速加熱、冷卻或保持溫度,
熱控卡盤(pán)、平板OUR
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